BOVEN OP Machine van het de Vacuümdeklaag de Ionenplateren van de Roestvrij staalbuis PVD

 
1. Het materiaal cryogene ionen secundaire bron, één of ander substraat zonder het materiaal te verwarmen, het kan
 
doe direct de koude platerenfilm bij kamertemperatuur, sparen energie, verhogingsproductiviteit.
 
2. Het maximum van de temperatuur voor de kamer van de hulpmiddeldeklaag kan 600 graden, naast het hulpmiddel
 
Coater de deklaagtoepassingen vereisen het verwarmen apparaat, vergen andere toepassingen niet het apparaat.
 
3. Het hoge depositotarief, Hoge deklaagsnelheid, het kan wijd worden gebruikt om de decoratieve functionele deklaag te doen,
 
deklaag op een verscheidenheid van producten. Zo is het een ideaal materiaal om de hoogwaardige en beste deklaag voor massa te doen
 
productie.
 
4. Magnetron het sputteren het principe is gebaseerd op de theorie van de lossing van de kathodegloed, besteedt het
 
het magnetische veld van de kathodeoppervlakte dichtbij de oppervlakte van het het werkstuk. Dan verbetert het het gesputterde atoom
 
ionisatietarief. Het houdt de magnetron het sputteren uniformiteit, kan ook het oppervlakte het glanzen effect verbeteren.
 
5. De de verdampingsbron van het boogplasma is betrouwbaar, kan het onder 40A-stroom werken in het optimaliseren van de kathode
 
en de magnetisch veldstructuur. Het zal atoomverspreiding tussen de deklaag en het materiaal gebeuren. Het
 
heeft ook de voordelen dat lon de Straal Deposito bijstond.
 
6. Het vacuüm pompende systeem, het elektrische controlesysteem en het volledige vacuümdeklaagsysteem kunnen zijn
 
aangepast volgens gebruikersvereisten.