BOVEN OP Ionen de Vacuümdeklaagmachine van de Magnetron Sputterende multi-Boog voor Hardware

 
 
 
1. Het hoge depositotarief, Hoge deklaagsnelheid, het kan wijd worden gebruikt om de decoratieve functionele deklaag te doen,
 
deklaag op een verscheidenheid van producten. Zo is het een ideaal materiaal om de hoogwaardige en beste deklaag voor massa te doen
 
productie.
 

2. Magnetron het sputteren het principe is gebaseerd op de theorie van de lossing van de kathodegloed, besteedt het
 
het magnetische veld van de kathodeoppervlakte dichtbij de oppervlakte van het het werkstuk. Dan verbetert het het gesputterde atoom
 
ionisatietarief. Het houdt de magnetron het sputteren uniformiteit, kan ook het oppervlakte het glanzen effect verbeteren.

 
3. De de verdampingsbron van het boogplasma is betrouwbaar, kan het onder 40A-stroom werken in het optimaliseren van de kathode
 
en de magnetisch veldstructuur. Het zal atoomverspreiding tussen de deklaag en het materiaal gebeuren. Het
 
heeft ook de voordelen dat lon de Straal Deposito bijstond.

 
4. Het vacuüm pompende systeem, het elektrische controlesysteem en het volledige vacuümdeklaagsysteem kunnen zijn
 
aangepast volgens gebruikersvereisten.
 
 

 
 
Het is op hardware, glasambachten, ceramische ambachten, zulke ons van toepassing horloges, mobiele sanitair shell van het telefoonmetaal,
 
waren, vorm, elektronische producten, kristalglas, glazen, bestek, messen etc.
 
U kunt super-harde slijtvaste filmdeklaag, anticorrosieve film, decoratieve film maken (de gouden kleur, nam toe
 
het goud, de koffie, bruin, het brons, de het blauw, de zwarte, witte, grijze en andere kleuren), het combineerden met magnetron het sputteren
 
de techniek kan het multilayer samengestelde membraan en het vervaardigde geplateerde roestvrije staal worden geplateerd,
 
het aluminium, het titanium, het wolfram en andere metaalfilms kunnen als met een laag bedekt TIN, TIC, TICN, TIALN worden vervaardigd,
 
CRN, Cu, Au, de diamantfilm (DLC), het decoratieve filmmetaal, de film en de niet-metalen samengestelde deklaag filmen en
 
zijn samenstellingenfilm.
 

Het werk Principe

Vacuümmagnetron het sputteren deklaagmachine het werk principe: de zogenaamde „plons“, de elektronen binnen

een elektrisch veld onder de actie van het versnellen van het proces om aan het substraat met argonatoom te vliegen

botsing, ionisatie uit hopen van argonionen en elektronen. De elektronenvliegen naar het substraat,

het argonion versnelt het doelmateriaal onder de actie van het elektrische veld, die uit groot sputteren

het aantal doelatoom, en het neutrale doelatoom (of de molecule) worden gedeponeerd op het substraat om te vormen

film. Secundair elektron in het versnellen om aan het substraat door magnetisch veld tijdens lorentz te vliegen

magnetische kracht, de invloed van beperkt gebied dichtbij het plasma van de doeloppervlakte, de plasmadichtheid op

het gebied is zeer hoog, is het secundaire elektron onder de actie van magnetisch veld rond de doeloppervlakte

de cirkelmotie, het elektronenanimatiepad is zeer lang, constant tijdens beweging van het effect

ionisatie uit hopen van argon ionenbombardement van doel, na vaak van botsing van

de elektronenenergie vermindert geleidelijk aan, gegoten van het juk van de magnetisch veldlijnen, vanaf het doel

materiaal, het definitieve deposito op het substraat.