BOVEN OP Magnetron die van de Asbakje het Multiboog Vacuümdeklaagmachine sputteren
Materiaalconfiguratie
Structuurtype: Verticaal type of horizontaal type
Kamertype: enige deur of dubbele deuren
Toepassingsgebied
Het is op hardware, glasambachten, ceramische ambachten, zulke ons van toepassing horloges, mobiele sanitair shell van het telefoonmetaal,
waren, vorm, elektronische producten, kristalglas, glazen, bestek, messen etc.
U kunt super-harde slijtvaste filmdeklaag, anticorrosieve film, decoratieve film maken (de gouden kleur, nam toe
het goud, de koffie, bruin, het brons, de het blauw, de zwarte, witte, grijze en andere kleuren), het combineerden met magnetron het sputteren
de techniek kan het multilayer samengestelde membraan en het vervaardigde geplateerde roestvrije staal worden geplateerd,
het aluminium, het titanium, het wolfram en andere metaalfilms kunnen als met een laag bedekt TIN, TIC, TICN, TIALN worden vervaardigd,
CRN, Cu, Au, de diamantfilm (DLC), het decoratieve filmmetaal, de film en de niet-metalen samengestelde deklaag filmen en
zijn samenstellingenfilm.
Hoofdeigenschap
1. Magnetron het sputteren het principe is gebaseerd op de theorie van de lossing van de kathodegloed, besteedt het
het magnetische veld van de kathodeoppervlakte dichtbij de oppervlakte van het het werkstuk. Dan verbetert het het gesputterde atoom
ionisatietarief. Het houdt de magnetron het sputteren uniformiteit, kan ook het oppervlakte het glanzen effect verbeteren.
2. De de verdampingsbron van het boogplasma is betrouwbaar, kan het onder 40A-stroom werken in het optimaliseren van de kathode
en de magnetisch veldstructuur. Het zal atoomverspreiding tussen de deklaag en het materiaal gebeuren. Het
heeft ook de voordelen dat lon de Straal Deposito bijstond.
3. Het vacuüm pompende systeem, het elektrische controlesysteem en het volledige vacuümdeklaagsysteem kunnen zijn
aangepast volgens gebruikersvereisten.
4. Het materiaal cryogene ionen secundaire bron, één of ander substraat zonder het materiaal te verwarmen, het kan
doe direct de koude platerenfilm bij kamertemperatuur, sparen energie, verhogingsproductiviteit.
5. Het maximum van de temperatuur voor de kamer van de hulpmiddeldeklaag kan 600 graden, naast het hulpmiddel
Coater de deklaagtoepassingen vereisen het verwarmen apparaat, vergen andere toepassingen niet het apparaat.
Productnaam
|
BOVEN OP Magnetron die van de Asbakje het Multiboog Vacuümdeklaagmachine sputteren
|
Luchtledige kamergrootte
| Beslis volgens de de substraatgrootte en output |
Substraat |
Hardware, glasambachten, ceramische ambachten, zulke ons horloges, mobiel telefoonmetaal
shell, sanitaire waren, vorm, elektronische producten, kristalglas, glazen, bestek,
messen etc.
|
Het met een laag bedekken van Film
| Hoogwaardige decoratieve deklaag. |
Deklaagkleur |
Het goud, nam goud, koffie toe, bruin, brons, blauwe, zwarte, witte, grijze enz.
|
|
Hardware, glasambachten, ceramische ambachten.
|
Structuur |
Verticaal type; horizontaal type; enig deurtype; dubbel-deurtype.
|
Deklaagmateriaal |
Het roestvrije staal, het aluminium, het titanium, het wolfram en andere metaalfilms kunnen
wordt vervaardigd als met een laag bedekt TIN, TIC, TICN, TIALN, CRN, Cu, Au, diamantfilm
(DLC), filmen het decoratieve filmmetaal, de film en de niet-metalen samengestelde deklaag en zijn
samenstellingenfilm.
|
Eigenschappen |
Hoge het pompen snelheid, hoog rendement, energie - besparing, volledig automatisch proces
het controlemechanisme kan eenvoudig zijn, betrouwbaar, mooi.
|
Het werk principe
Magnetron het sputteren het werk principe van vacuümdeklaagmachine, de zogenaamde „plons“, onder
de actie van de elektronen op een elektrisch veld versnelt aan het substraat tijdens botsing met argon
atomen, ionisatie uit hopen van argonionen en elektronen. Het elektron vliegt naar het substraat,
het argonion versnelt het doelmateriaal onder de actie van het elektrische veld, die uit groot sputteren
het aantal doelatoom, en het neutrale doelatoom (of de molecule) worden gedeponeerd op het substraat om te vormen
film. Secundair elektron in het versnellen om aan het substraat door magnetisch veld tijdens lorentz te vliegen
magnetische kracht, de invloed van beperkt gebied dichtbij het plasma van de doeloppervlakte, de plasmadichtheid op
het gebied is zeer hoog, is het secundaire elektron onder de actie van magnetisch veld rond de doeloppervlakte
de cirkelmotie, het elektronenanimatiepad is zeer lang, constant tijdens beweging van het effect
ionisatie uit hopen van argon ionenbombardement van doel, na vaak van botsing van
de elektronenenergie vermindert geleidelijk aan, gegoten van het juk van de magnetisch veldlijnen, vanaf het doel
materiaal, het definitieve deposito op het substraat.
Deklaagsteekproeven
Uw bericht moet tussen de 20-3.000 tekens bevatten!
