Vacuümmagnetron het sputteren deklaagmachine het werk principe: de zogenaamde „plons“, de elektronen binnen

een elektrisch veld onder de actie van het versnellen van het proces om aan het substraat met argonatoom te vliegen

botsing, ionisatie uit hopen van argonionen en elektronen. De elektronenvliegen naar het substraat,

het argonion versnelt het doelmateriaal onder de actie van het elektrische veld, die uit groot sputteren

het aantal doelatoom, en het neutrale doelatoom (of de molecule) worden gedeponeerd op het substraat om te vormen

film. Secundair elektron in het versnellen om aan het substraat door magnetisch veld tijdens lorentz te vliegen

magnetische kracht, de invloed van beperkt gebied dichtbij het plasma van de doeloppervlakte, de plasmadichtheid op

het gebied is zeer hoog, is het secundaire elektron onder de actie van magnetisch veld rond de doeloppervlakte

de cirkelmotie, het elektronenanimatiepad is zeer lang, constant tijdens beweging van het effect

ionisatie uit hopen van argon ionenbombardement van doel, na vaak van botsing van

de elektronenenergie vermindert geleidelijk aan, gegoten van het juk van de magnetisch veldlijnen, vanaf het doel

materiaal, het definitieve deposito op het substraat.